Das Kefk Network Wiki befindet sich im Testbetrieb.

---

Aus Kefk.

SU-8 ist ein Fotolack der Firma Microchem Corp. und gehört zu der Gruppe der Negativ-Resiste. Wie die meisten Resists besteht SU-8 aus den drei Bestandteilen Grundharz, Lösungsmittel und fotoempfindlicher Komponente. Zum Einsatz kommt SU-8 meist in der Mikrosystemtechnik bei Ultraviolett-LIGA-Verfahren.

Das Grundharz ist in diesem Fall das Epoxidharz EPON-Resin der Firma Shell Chemical, welches in dem organischen Lösungsmittel γ-Butyrolacton (GBL) gelöst ist. Die fotoempfindliche Komponente von SU-8 wirkt, im Gegensatz zu anderen (Positiv-)Fotolacken, nur indirekt auf die Löslichkeit des Resists. Zum Einsatz als Fotoinitiatorsalz kommt ein Triaryl-Sulfonium-Salz zu ca. 10 Gew.%. Diese Komponente wird auch Photo Acid Generator oder PAG genannt.

SU-8 ist in verschiedenen Viskositäten verfügbar, welche durch den Anteil des Lösungsmittels im Resist gesteuert werden. Die Viskosität legt auch den Bereich der Schichtdicke fest, der mit dem Resist erreicht werden soll. Mit SU-8/100 ist ein Schichtaufbau bis zu 1200 µm möglich.

Mittels eines Backvorgangs auf einer Heizplatte oder in einem geeigneten Ofen, dem sogenannten Soft- oder Prebake, wird bei einer typischen Temperatur von 95 °C der größte Teil des Lösungsmittels verdampft, wodurch sich der vorher flüssige Resist nach dem Abkühlen verfestigt. Ein Erwärmen des Lackes über die Glasübergangstemperatur von 55 °C führt zu einer Wiederverflüssigung der Schicht. Durch die Belichtung wird das Fotoinitiatorsalz in eine Säure umgewandelt. Während des anschließenden, sogenannten Post Exposure Bake (PEB) induziert die Säure eine Polymerisation, durch die sie regeneriert wird. Ein einzelnes Photon kann somit eine Reihe von Polymerisationen auslösen, was eine hohe Fotoempfindlichkeit des Resists bedingt.

Literatur

• Friedemann Völklein, Thomas Zetterer: Einführung in die Mikrosystemtechnik. Vieweg Verlag, Januar 2006, 2. Auflage, ISBN 3-528-13891-2

Weblinks

• Website der Firma microchem

Dieses Dokument entstammt in seiner ersten oder einer späteren Version der deutschsprachigen Wikipedia. Es ist dort zu finden unter dem Stichwort SU-8, die Liste der bisherigen Autoren befindet sich in der Versionsliste; die Originalfassung kann dort auch bearbeitet werden. Alle Texte der Wikipedia und ihre Derivate stehen unter der GNU-Lizenz für freie Dokumentation.