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Immersions-Lithografie
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Immersions-Lithografie ist ein Fotolithografie-Verfahren zur Erzeugung von Strukturen auf Wafern, bei dem durch eine Flüssigkeit mit höherer Brechzahl belichtet wird, um feinere Strukturen zu erzeugen.
Technik
Es wird mit der üblichen Wellenlänge von 193 nm belichtet. Durch einen Wassertropfen zwischen Linse und Wafer wird die Auflösung um den Faktor 1,4 verbessert. Diese Technologie ist eigentlich nicht neu. Bei Mikroskopen wird sie bereits sit über 100 Jahren verwendet.
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